磁控濺射鍍膜設(shè)備

簡要描述：1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。
2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

所在城市：無錫市
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新日期：2024-10-16
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產(chǎn)品分類

鍍膜機(jī)

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　　磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種先進(jìn)的物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，其核心在于利用濺射效應(yīng)將靶材原子轉(zhuǎn)移到基材表面，從而形成薄膜。濺射效應(yīng)是指當(dāng)高能離子撞擊固體表面時(shí)，靶材表面原子被擊出并散射的現(xiàn)象。

　　在磁控濺射過程中，首先在真空腔體中引入惰性氣體(通常是氬氣)。當(dāng)高壓電場(chǎng)作用于氣體時(shí)，氬氣被電離形成等離子體，這種等離子體由帶正電的離子和自由電子組成。等離子體中的高能氬離子在電場(chǎng)的加速下撞擊靶材表面，導(dǎo)致靶材原子被濺射出來。這些濺射出的原子隨后沉積在基材上，逐層形成所需的薄膜。

　　1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。

　　2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。

　　3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

　　4.主要用途：

　　1. 開發(fā)納米級(jí)單層、多層及復(fù)合膜層等。

　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......

　　3. 兩靶單獨(dú)濺射、依次濺射、共同濺射。

　　5.應(yīng)用領(lǐng)域：

　　1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。

　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。

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